快讯摘要
日本三井化学将量产光刻机零部件产品,支持 ASML 下一代光刻机,生产线预计 2025 年 12 月完工,年产能 5000 张。
![三井化学:2025 年 12 月量产半导体光刻机零部件 第1张 三井化学:2025 年 12 月量产半导体光刻机零部件 第1张](https://wxxat.com/zb_users/upload/news/2024-06-18/66712f8475df2.jpeg)
快讯正文
【日本三井化学将量产半导体最尖端光刻机零部件产品】日本三井化学日前透露,将着手量产半导体最尖端光刻机的零部件产品,即保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品。该公司计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线,预计年产能力为 5000 张,生产线预计于 2025 年 12 月完工。此产品可支持荷兰阿斯麦(ASML)将推出的下一代光刻机。
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